当前位置:新闻资讯 » 技术资料
HMDS真空干燥箱的工作流程
更新时间:2014-4-27 23:07:49

  HMDS的化学名称为六甲基二硅胺或氮烷, 外观是无色透明液体,无悬浮物及机械杂质。

  HMDS真空干燥箱主要用途:

  盘尼西林、头孢霉素、氟尿嘧啶及各种青霉素衍生物等硅藻土、硅石、钛等粉末的表面处理。半导体工业中光致刻蚀剂的粘结助剂。

真空干燥箱

  HMDS真空干燥箱与硅片反应机理:先加热到100℃-200℃,去除硅片表面的水分,然后HMDS与表面的OH一反应,在硅片表而生成硅醚,消除氢键作,从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。

HMDS真空干燥箱的工作流程:
  先确定HMDS真空干燥箱工作温度。典型的预处理程序为:打开真空泵抽真空,待腔内真牢度达到某一高真空度后,开始充人氮气,充到达到某低真空度后,再次进行抽真空、充入氮气的过程,到达设定的充入氮气次数后,开始保持一段时间,使硅片充分受热,减少硅片表面的水分。然后HMDS真空干燥箱再次开始抽真空,充入HMDS气体,在到达设定时间后,停止充入 HMDS药液,进入保持阶段,使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后,再次开始抽真空。充入氮气,完成整个作业过程。

 

上海环竞试验设备厂 Copyright®2014 版权所有 沪ICP备14014713号-1
咨询热线:021-57445700 公司地址:上海市奉贤区沪杭公路3213号
主营产品:鼓风干燥箱 电热恒温鼓风干燥箱 高温烘箱 真空干燥箱 充氮烘箱 洁净烤箱 高温烤箱 胶水脱泡箱 环氧树脂脱泡箱 高温箱